據彭博社報道，荷蘭政府計劃最快下周發布新的出口管制措施，將限制 ASML 的半導體制造設備出口。

　　報道稱，此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光(DUV)浸入式光刻設備。IT之家注意到，這一系列設備最高可支持 5 nm 工藝，如臺積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實現了 7 nm 量產。此前，ASML 最先進的極紫外光(EUV)光刻機已在出口管制列表當中。

　　彭博社援引知情人士消息稱，這一出口管制新規最早將在 6 月 30 日或 7 月第一周公布，有可能成為被其他歐盟成員國效仿的對象，荷蘭政府發言人對此不予置評。

　　報道指出，這是荷蘭和日本今年 1 月原則上同意加入美國限制對中國大陸出口先進半導體制造設備的行動以來的最新舉措，荷蘭貿易部長 Schreinemacher 稱，荷蘭以國家和國際安全考量，有必要盡快限制先進半導體技術出口。

　　ASML 執行副總裁兼商務總監 Christophe Fouquet 聲稱，幾乎不可能建立全自主的芯片產業鏈，這樣做的代價是極為高昂和困難的，日本光刻機制造商佳能和尼康便是前車之鑒。
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